실험실·반도체 공정 > 적용사례

본문 바로가기

적용사례

실험실·반도체 공정

본문

수십년 동안 반도체 업계의 연구자들은 웨이퍼 세정 및 여러 공정에 오존의 사용을 연구하였습니다.
오존을 통해 세척 효율을 향상시키기 위해 염기성(SC-1) 및 산성(SC-2) 과산화수소 혼합물을 사용하는 전통적인 세정방법의 대안으로 사용되어 화학 물질 소비 및 폐기 비용을 낮추었습니다.
오존의 살균 활동 및 OH-Radical과 같은 오존 유도에 의해 발휘되는 다수의 영향 덕분에 효과적입니다.
유기물, 금속 및 입자를 제거하며 감광액(Photoresist)도 제거합니다.

적용사례

  • CN-1
  • 군산대 LAB-2
  • 넥서스비 실험실용
  • 서울대학교

오존텍

copyright © 오존텍 All rights reserved